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研磨和抛光耗材的选择是影响制备过程的关键因素。 Buehler的易损件旨在提高效率并确保过程中的可重复性。
Planar磨石是设计用于PlanarMet 300的多用途磨盘。其能够提供高磨削率和一致的划痕图案。
Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨纸是SiC磨盘的主要产品，可有效去除材料并减少表面损伤。 我们的圆盘具有各种粒度，微米大小和直径。
金刚石磨盘提供长寿命研磨表面，可为各种材料提供出色的表面平整度。 标乐（Buehler）金刚石磨盘中的金刚石颗粒提供了一致性的去除率和更长的使用寿命，只需偶尔修整。 标乐（Buehler）的金刚石磨盘具有良好的边缘保持性，较长的使用寿命和结果的一致性，是自动化系统中定量去除材料的理想选择。
抛光布配合研磨料使用，可去除表面变形层，暴露材料结构进行金相分析。由于抛光是金相制备过程中极其重要的一步，所以选择高质量的抛光布是非常必要的。标乐（Buehler）的金相抛光布配合MetaDi金刚石抛光液，为样品的每步制备都提供可靠的结果及完整的解决方案。
MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。
最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。Buehler提供了各种氧化铝和二氧化硅产品，其中包括胶体二氧化硅抛光悬浮液，可以满足许多不同的应用需求。
某些特殊的应用需要特定的耗材及解决方案。特殊夹具搭配各类研磨盘和研磨粉可用于电路板的磨抛。
样品夹具设计用于Buehler的磨抛机，以便于研磨抛光过程的优化和自动化。根据样品的形状和大小，有多种不同尺寸和形状的夹具可供选择。
提供了许多用于样品制备的不同磁性压板系统，以方便在Buehler的研磨抛光机上使用不同的研磨和抛光表面。特殊的高摩擦表面可在制备过程中快速施用和去除表面。 压板系统的基础是带有Apex S膜的铝压板。
Burst 抛光液配送系统灵活、易于操作，适用于所有金刚石和最终抛光悬浮液。通过多种操作模式，该系统可为标乐所有的研磨抛光设备定制解决方案。该系统可以以固定的间隔和预设的流量配送抛光悬浮液，从而提高生产效率和一致性。
Ideal for laboratories concerned with water regulation and conservation requirements and/or environmental issues. Designed for use with manual and semi-automatic grinder-polishers, the EnvironMet® Filter System uses fresh water for each step in preparation. The filtration rate allows up to two grinder-polishers to operate off of one system. The 49-2500 EnvironMet® System is designed to filter up to 1μm and then recirculate the water. The 49-2501 EnvironMet® System is designed to filter water up to 100μm and uses fresh water. Both EnvironMet® Systems are powered by compressed air and require no electrical connections.
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